2024-08-18 13:50:21
全光譜橢偏儀是一種用于生物學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的分析儀器。常用來探測(cè)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)、孔隙率以及材料微結(jié)構(gòu)的特性。工作原理是基于橢圓偏振光在樣品表面的反射,通過測(cè)量反射光的偏振態(tài)變化(幅度和相位),來計(jì)算或擬合出材料的相關(guān)屬性。入射光束(通常為線偏振光)的電場(chǎng)可在兩個(gè)垂直平面上分解為矢量元,反射光或透射光一般是橢圓偏振光。用復(fù)數(shù)ρ來表示偏振態(tài)的變化,其中ψ和?分別描述反射光 p 波與 s 波振幅衰減比和相位差。通過菲涅耳反射系數(shù) rp 和 rs 以及相關(guān)公式,可以計(jì)算出材料的折射率 n(真空中的光速與材料中光的傳播速度的比值)和消光系數(shù) k(表征材料對(duì)光的吸收)等光學(xué)常數(shù)。
全光譜橢偏儀的主要特點(diǎn)包括:
? 測(cè)量精度高:能測(cè)量很薄的膜(低至單原子層),精度比干涉法高1-2個(gè)數(shù)量級(jí);
? 非接觸、非破壞性測(cè)量:不必特別制備樣品,也不損壞樣品;
? 可同時(shí)測(cè)量多個(gè)參數(shù):能同時(shí)測(cè)量膜的厚度、折射率以及吸收率;
? 適用材料廣泛:可測(cè)的材料包括半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機(jī)物、金屬、多層膜物質(zhì)等;
? 光譜范圍可選:從深紫外到紅外,不同的光譜范圍能提供關(guān)于材料的不同信息,可根據(jù)被測(cè)材料的屬性、薄膜厚度及關(guān)心的光譜段等因素進(jìn)行選擇,以提升多層探測(cè)能力并測(cè)試物質(zhì)對(duì)不同波長(zhǎng)光波的折射率等。
在選擇合適的全光譜橢偏儀時(shí),除了光譜范圍,測(cè)量速度通常也是一個(gè)重要的考慮因素。其測(cè)量速度一般由所選擇的分光儀器來決定,例如使用單色儀每次只能測(cè)試一個(gè)波長(zhǎng),速度較慢,但波長(zhǎng)比較準(zhǔn)確;而利用探測(cè)器陣列同時(shí)測(cè)量整個(gè)光譜范圍的方式,在需要快速測(cè)量時(shí)較為常用。
全光譜橢偏儀在眾多領(lǐng)域都有應(yīng)用,如半導(dǎo)體、微電子、通訊、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥等。它可用于研究半導(dǎo)體集成電路制造、光學(xué)鍍膜和保護(hù)膜、聚合物特性等,也可應(yīng)用于材料科學(xué)、物理、化學(xué)等基礎(chǔ)研究,以及生物、醫(yī)藥等領(lǐng)域的相關(guān)研究。
不同型號(hào)的全光譜橢偏儀具有不同的技術(shù)指標(biāo),例如致東 Radiation橢偏儀的技術(shù)指標(biāo)如下:
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規(guī)格 |
技術(shù)指標(biāo) |
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襯底類型 |
透明或半透明襯底 |
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光源 |
氙燈 |
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光源壽命 |
>8760H |
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光譜范圍 |
300-1000nm |
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入射角 |
70度(40度-90度 每5度可調(diào)) |
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光斑直徑 |
100x120μm(Min80x100um) |
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測(cè)量時(shí)間(不對(duì)焦) |
<2S(單層模型),<約6s(多層模型) |
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膜厚測(cè)量范圍(單層膜) |
1nm-15μm |
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對(duì)焦 |
自動(dòng)訊號(hào)對(duì)焦 |
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膜厚測(cè)量精度 |
<0.5nm(基于標(biāo)片) |
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折射率測(cè)量精度 |
<0.005(基于標(biāo)片) |
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厚度重復(fù)性精度: |
<0.5A(1 sigma 標(biāo)準(zhǔn)差,10times)(基于標(biāo)準(zhǔn)片) |
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折射率重復(fù)性精度: |
<0.0005(1 sigma標(biāo)準(zhǔn)差,10times)(基于標(biāo)準(zhǔn)片) |
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可測(cè)試膜層數(shù)量 |
≥2層 |
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標(biāo)片數(shù)量 |
2片 |
致東 Radiation橢偏儀緊湊型膜厚量測(cè)設(shè)備
● 安裝移動(dòng)迅速便捷
● 適用于所有非金屬膜質(zhì)
● 多樣化的應(yīng)用選擇
● 工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)端口
關(guān)鍵詞:光譜儀 | 橢偏儀 | 反射儀
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